23回電解プロセス研究会および第88回電解科学技術委員会

 

日時: 2012918日(火) 13:3017:00

場所: 京都大学本部キャンパス 工学部6号館363

 

プログラム:

(1)13:3014:20

「溶融塩電解による高純度シリコン製造プロセスの開発」

産業技術総合研究所  大石哲雄 先生

(2)14:2015:10

「溶融塩からのタングステン電析技術の開発と応用」

住友電気工業  新田耕司 博士

(3)15:2016:10

水素/空気二次電池の開発と今後の展開

同志社大学 盛満正嗣 先生

(4)16:1017:00

イオン液体を用いた次世代電気めっき

大阪大学  津田哲哉 先生

 

参加申込締切:97日(金)までにE-mailにてdenkai@electrochem.jpまでお申込み下さい。

 

参加費:当日会場でお支払ください。

電解科学技術委員会委員・学生:無料

電気化学会会員:2,000

非会員    :5,000

 

 

会場案内:http://denkai.electrochem.jp/kyodai.pdf

電解科学技術委員会HP http://denkai.electrochem.jp/

 

参加申込・問合先:

240-8501 横浜市保土ヶ谷区常盤台79-5

横浜国立大学大学院工学研究院機能の創生部門

電気化学会電解科学技術委員会 事務局

光島 重徳

TEL:045-339-4020 FAX:045-339-4024  E-mail: denkai@electrochem.jp