第23回電解プロセス研究会および第88回電解科学技術委員会
日時: 2012年9月18日(火) 13:30〜17:00
場所: 京都大学本部キャンパス 工学部6号館363室
プログラム:
(1)13:30〜14:20
「溶融塩電解による高純度シリコン製造プロセスの開発」
産業技術総合研究所 大石哲雄 先生
(2)14:20〜15:10
「溶融塩からのタングステン電析技術の開発と応用」
住友電気工業 新田耕司 博士
(3)15:20〜16:10
「水素/空気二次電池の開発と今後の展開」
同志社大学 盛満正嗣 先生
(4)16:10〜17:00
「イオン液体を用いた次世代電気めっき」
大阪大学 津田哲哉 先生
参加申込締切:9月7日(金)までにE-mailにてdenkai@electrochem.jpまでお申込み下さい。
参加費:当日会場でお支払ください。
電解科学技術委員会委員・学生:無料
電気化学会会員:2,000円
非会員 :5,000円
会場案内:http://denkai.electrochem.jp/kyodai.pdf
電解科学技術委員会HP: http://denkai.electrochem.jp/
参加申込・問合先:
〒240-8501 横浜市保土ヶ谷区常盤台79-5
横浜国立大学大学院工学研究院機能の創生部門
電気化学会電解科学技術委員会 事務局
光島 重徳
TEL:045-339-4020 FAX:045-339-4024
E-mail: denkai@electrochem.jp